包括用于多种深度蚀刻的掩模的激光蚀刻系统

摘要

一种激光蚀刻系统包括配置为在蚀刻过程期间生成多个激光脉冲的激光源。相对于激光源对准工件。工件包含响应于接收多个激光脉冲被蚀刻的蚀刻材料。将掩模插入在激光源和工件之间。掩模包括配置为调节由工件实现的激光脉冲的能量密度或数量的至少一个掩模图案，使得在蚀刻材料中蚀刻彼此之间具有不同深度的多个特征。