公开/公告号CN106783984A
专利类型发明专利
公开/公告日2017-05-31
原文格式PDF
申请/专利权人 全球能源互联网研究院;国网上海市电力公司;国家电网公司;
申请/专利号CN201611026227.9
申请日2016-11-22
分类号H01L29/739(20060101);H01L29/06(20060101);H01L21/331(20060101);
代理机构11271 北京安博达知识产权代理有限公司;
代理人徐国文
地址 102209 北京市昌平区未来科技城北区国网智能电网研究院院内
入库时间 2023-06-19 02:20:31
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-11-02
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/739 申请日:20161122
实质审查的生效
2017-05-31
公开
公开
机译: 利用层转移技术制造硅/电多层半导体结构的方法,以及使用同一方法的三维多层半导体器件和叠层型图像传感器的制造方法,以及一种多层制造方法设备和堆叠式图像传感器
机译: 一种横向型半导体器件,具有消除在其中形成的寄生MOS晶体管的导通的结构。
机译: 一种用于半导体器件的连接结构的制备方法