一种应用于新生儿黄疸病治疗LED器件中的蓝光荧光粉及其合成方法

摘要

一种应用于新生儿黄疸病治疗LED器件中的蓝光荧光粉及其合成方法，其化学组成式为：SiO

说明书

技术领域

本发明属于无机材料的稀土掺杂荧光粉，具体地说，涉及一种应用于新生儿黄疸病治疗LED器件中的蓝光荧光粉及其合成方法。

背景技术

光照治疗是新生儿黄疸病治疗中的一种方法。由于光照治疗不像药物治疗对新生儿产生毒性，也不像换血疗法一样对新生儿产生过重的身体负担，所以它是新生儿黄疸病治疗中最常用的方法。光照疗法中使用蓝光，作为蓝光光源，最常用的为蓝色荧光粉与激发芯片组合而成的LED器件。所以蓝光荧光粉的开发有着广阔的应用前景。

患黄疸病的新生儿皮肤首先吸收蓝光，然后蓝光将皮肤中的胆红素氧化掉，使之产生一种极性较强、可随尿液排出的氧化物而从身体中代谢出去。400-520nm范围内的蓝光对此治疗都有效，特别是460±10nm的蓝光与胆红素的吸收光谱更加匹配。目前用于此光照治疗的蓝光荧光粉都存在既发射蓝光，也发射一定紫外光的问题。首先，这浪费了一定的能量，不环保。其次，紫外线辐射对于新生儿的伤害较大，不利于健康。所以开发新型紫外线含量低的、高效的蓝光荧光粉是目前急需解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种紫外线含量低，用于新生儿黄疸病治疗LED器件中的蓝光荧光粉及其合成方法。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种蓝光荧光粉，其化学组成式为：SiO₂-Mg_1-xCl₂:Eu²⁺_x；其中0.001≤x≤0.90。

上述蓝色荧光粉的合成方法，包括如下步骤：将MgO、SiO₂和Eu₂O₃在500～1000℃，空气气氛中煅烧1～5h，形成荧光粉A；再次将荧光粉A研磨后，将荧光粉A在500～1000℃的还原气氛中煅烧1～5h，形成最终的蓝光荧光粉。所述反应是在陶瓷坩埚和管式还原炉中进行。

与现有的荧光粉相比，本发明具有如下有益效果：

(1)本发明所得的荧光粉为α-石英型结构，所用原料无毒、价廉易得；合成方法采用高温固相反应，具有合成方法简单，合成时间短等优点。

(2)本发明产品所含紫外线含量占整体荧光发射量的千分之一不到，且较完美地覆盖了光照治疗黄疸病所需的辐射范围，提高了能量利用率与安全性。

附图说明

图1为本发明实验例1～3所制备的蓝色荧光粉的XRD图。

图2为本发明实施例1所制备的蓝色荧光粉的荧光激发光谱图。

图3为本发明实施例1所制备的蓝色荧光粉的荧光发射光谱图。

图4为本发明实施例1所制备的蓝色荧光粉的荧光发射变温光谱图。其中，图4中，是荧光粉的升温曲线，曲线从上到下，温度升高，荧光强度降低。

图5为本发明实施例1所制备的蓝色荧光粉的漫反射谱图。

具体实施方式

为更好理解本发明，下面结合实施例对本发明做进一步地详细说明，但是本发明要求保护的范围并不局限于实例表示的范围。

实施例1：蓝色荧光粉的制备

将0.01mol的MgO、0.02mol的NH₄Cl、0.03mol的SiO₂和1.2×10^—4mol(0.3mol％)的Eu₂O₃放入玛瑙研钵中研磨1小时至混合均匀。放入陶瓷坩埚中，然后在高温炉中，加热至1000℃，保温2小时，然后自然冷却。取出样品后放入玛瑙研钵，再加入0.02mol的NH₄Cl，研磨至充分混匀。然后放入陶瓷坩埚中，装入管式还原炉中，在H₂：N₂体积比例为1:9的还原气氛中，加热至1000℃，保温2小时，然后自然冷却，取出后研磨再进行后续测试。产品的XRD衍射峰如图1所示；荧光激发光谱如图2所示；荧光发射光谱如图3所示；荧光发射变温光谱图如图4；蓝色荧光粉的漫反射谱图如图5。如图1中谱线1所示，所有衍射峰都能与底部的α-石英型结构的标准峰(JCPDS>

实施例2：蓝色荧光粉的制备

将0.01mol的MgO、0.02mol的NH₄Cl、0.03mol的SiO₂和2.4×10^—4mol(0.6mol％)的Eu₂O₃放入玛瑙研钵中研磨1小时至混合均匀。放入陶瓷坩埚中，然后在高温炉中，加热至1000℃，保温2小时，然后自然冷却。取出样品后放入玛瑙研钵，再加入0.02mol的NH₄Cl，研磨至充分混匀。然后放入陶瓷坩埚中，装入管式还原炉中，在H₂：N₂体积比例为1:9的还原气氛中，加热至1000℃，保温2小时，然后自然冷却，取出后研磨再进行后续测试。产品的XRD衍射峰如图1所示。如图1中谱线2所示，所有衍射峰都能与底部的α-石英型结构的标准峰(JCPDS>

实施例3：蓝色荧光粉的制备

将0.01mol的MgO、0.02mol的NH₄Cl、0.03mol的SiO₂和1.2×10^—4mol(0.3mol％)的Eu₂O₃放入玛瑙研钵中研磨1小时至混合均匀。放入陶瓷坩埚中，然后在高温炉中，加热至900℃，保温2小时，然后自然冷却。取出样品后放入玛瑙研钵，再加入0.02mol的NH₄Cl，研磨至充分混匀。然后放入陶瓷坩埚中，装入管式还原炉中，在H₂：N₂体积比例为2:8的还原气氛中，加热至900℃，保温1.5小时，然后自然冷却，取出后研磨再进行后续测试。产品的XRD衍射峰如图1所示。如图1中谱线3所示，所有衍射峰都能与底部的α-石英型结构的标准峰(JCPDS>