法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-01-03
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L31/0216 申请公布日:20170111 申请日:20160928
发明专利申请公布后的驳回
2017-02-08
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0216 申请日:20160928
实质审查的生效
2017-01-11
公开
公开
机译: 半导体低阻膜的形成低阻膜的组合物,低阻膜的形成低电阻膜的过程及制造图案化基材的方法
机译: 用于形成低电阻膜或低折射率膜的涂料溶液,以及用于生产低电阻膜或低折射率低电阻膜的方法
机译: 在Si晶片上形成Ni和Ni合金膜的方法,在Si晶片上形成Ni和Ni合金膜的方法,在形成Ni时Si晶片的表面的表面粗糙化处理液和镍合金膜,转化处理方法