法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-12-06
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C14/08 申请公布日:20161116 申请日:20160815
发明专利申请公布后的视为撤回
2016-12-14
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/08 申请日:20160815
实质审查的生效
2016-11-16
公开
公开
机译: 能够有效地在室温下在基板上沉积靶材的磁控溅射装置和磁控溅射沉积系统
机译: 用于薄膜和液晶显示器的薄膜晶体管和薄膜晶体管基板及其生产方法,以及使用其和相关设备和方法溅射的目标薄膜和透明导电薄膜,以及使用该方法和透明电极及相关方法制成的薄膜和透明导电薄膜
机译: 用于薄膜和液晶显示器的薄膜晶体管和薄膜晶体管基板及其生产方法,以及使用其和相关设备和方法溅射的目标薄膜和透明导电薄膜,以及使用该方法和透明电极及相关方法制成的薄膜和透明导电薄膜