首页> 中国专利> 具有背栅、无穿通且具有减小的鳍高度变化的FinFET

具有背栅、无穿通且具有减小的鳍高度变化的FinFET

摘要

一种FinFET,其具有在该FinFET的鳍沟道之下的背栅和阻挡层,其中该阻挡层具有比该背栅的带隙更大的带隙。该阻挡层用作该鳍沟道下的蚀刻停止层,从而导致减小的鳍沟道高度变化。该背栅提供改进的电流控制。由于该较高带隙的阻挡层而有较少穿通。该FinFET还可包括毗邻源极/漏极扩散的深嵌式应力源,这些深嵌式应力源穿过该高带隙阻挡层。

著录项

  • 公开/公告号CN105981174A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 高通股份有限公司;

    申请/专利号CN201580007861.5

  • 申请日2015-02-11

  • 分类号H01L29/66;H01L29/78;

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人李小芳

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 00:37:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-31

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L29/66 申请公布日:20160928 申请日:20150211

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/66 申请日:20150211

    实质审查的生效

  • 2016-09-28

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号