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一种电子束和多重图案光刻混合工艺版图图案分解方法

摘要

本发明属于集成电路半导体制造技术领域,涉及一种电子束和多重图案光刻混合工艺中版图图案分解方法,该方法将最小化电子束使用面积和缝合点数目的版图图案分解问题表示成删点K划分问题。所述方法包括步骤:根据输入版图文件和冲突距离B,构建冲突图G;然后随机产生删点K划分初始解,应用已有的删点两划分算法对当前最优解重复迭代优化,直到当前最优解若干次未发生更新;最后从中挑选最优的删点K划分结果作为输出。本发明迭代应用已有的删点两划分算法,并采用随机多起始点策略试图寻找全局最优解,达到电子束和多重图案混合刻蚀工艺中版图图案分解的目的。

著录项

  • 公开/公告号CN105893645A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 复旦大学;

    申请/专利号CN201410802288.4

  • 申请日2014-12-19

  • 分类号

  • 代理机构上海元一成知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人吴桂琴

  • 地址 200433 上海市邯郸路220号

  • 入库时间 2023-06-19 00:19:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-12

    授权

    授权

  • 2016-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20141219

    实质审查的生效

  • 2016-08-24

    公开

    公开

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