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一种射频偏压供电的磁控溅射金属铝离子源

摘要

本发明公开了一种射频偏压供电的磁控溅射金属铝离子源,包括:弧室,作为等离子体生成弧室和阳极,弧室内导入含氟可电离气体;灯丝,作为热阴极灯丝并设置在弧室内,灯丝用来发射电子;氮化铝反射电极,设置在弧室内的一侧,作为铝离子生成源,在阳极与氮化铝反射极间施加来自于射频电源的电压;磁铁,安装在弧室内以产生磁场;引出电极,用来引出铝离子束流;偏压电源,设置在灯丝和弧室之间,电子在偏压电源生成的电场作用下飞向弧室,氟离子在电场作用下加速飞向灯丝。本发明具有结构简单紧凑、成本低廉、效率更高等优点。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-12-15

    授权

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  • 2016-07-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/08 申请日:20151214

    实质审查的生效

  • 2016-06-08

    公开

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