公开/公告号CN104946429A
专利类型发明专利
公开/公告日2015-09-30
原文格式PDF
申请/专利权人 安集微电子科技(上海)有限公司;
申请/专利号CN201410116569.4
申请日2014-03-26
分类号
代理机构上海翰鸿律师事务所;
代理人李佳铭
地址 201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层
入库时间 2023-12-18 11:09:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-03
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C11D7/32 申请公布日:20150930 申请日:20140326
发明专利申请公布后的驳回
2017-12-22
著录事项变更 IPC(主分类):C11D7/32 变更前: 变更后: 申请日:20140326
著录事项变更
2017-04-12
实质审查的生效 IPC(主分类):C11D7/32 申请日:20140326
实质审查的生效
2015-09-30
公开
公开
机译: 低水清洗液的铜蚀刻速率,以提高有机残留物的去除率
机译: 含有乙缩醛或缩酮的剥离剂,用于去除蚀刻后的耐光蚀剂,蚀刻聚合物和残留物
机译: 含有乙缩醛或缩酮的剥离剂,用于去除蚀刻后的耐光蚀剂,蚀刻聚合物和残留物