Ag合金膜形成用溅射靶及Ag合金膜、Ag合金反射膜、Ag合金导电膜、Ag合金半透明膜

摘要

本发明涉及一种Ag合金膜形成用溅射靶、Ag合金膜、Ag合金反射膜、Ag合金导电膜及Ag合金半透明膜，该Ag合金膜形成用溅射靶的特征在于，具有如下组成：0.2原子％以上2.0原子％以下的Sb、0.05原子％以上1.00原子％以下的Mg，余量由Ag和不可避免杂质构成。

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于形成Ag合金膜(Ag合金反射膜、Ag合金导电膜、Ag合金 半透明膜)的Ag合金膜形成用溅射靶及Ag合金膜、Ag合金反射膜、Ag合金导电膜、 Ag合金半透明膜，所述Ag合金膜用于在显示器或照明中使用的发光元件及光记录用 光盘等的光反射层、触摸面板等的配线、红外线阻隔膜和透明导电膜等。

本申请主张基于2013年1月23日于日本申请的日本专利申请2013-010070号及 2014年1月14日于日本申请的日本专利申请2014-004584号的优先权，并将其内容 援用于此。

背景技术

通常，出于提高出光效率的目的，在有机EL或反射型液晶等显示器、LED等发 光元件或光记录用光盘等上形成有光反射层。其中，由Ag及Ag合金构成的Ag膜及 Ag合金膜的反射率高，因此被广泛用作上述光反射层。

例如，专利文献1中公开有作为有机EL元件的反射电极的构成材料而使用Ag合 金的内容。

专利文献2公开有作为半导体发光元件的电极的构成材料而使用以高效率反射光 的Ag或Ag合金的内容。

专利文献3中公开有作为光存储介质的反射层的构成材料而使用Ag或Ag合金的 内容。

并且，Ag膜及Ag合金膜除上述用途之外，还用于光学仪器用反射镜、太阳电能 池用反射膜、照明装置的反射器等中。

另一方面，上述Ag膜及Ag合金膜的导电性也很优异，因此例如专利文献4中所 公开的，也被用作触摸面板的引出配线。此外，如同专利文献5中所记载，膜厚较薄 的Ag膜也被用作半透明膜。由Ag构成的半透明膜也被用作显示器用透明导电膜或底 部发射方式的有机EL的阴极。

专利文献1：日本专利公开2012-059576号公报

专利文献2：日本专利公开2006-245230号公报

专利文献3：日本专利公开2004-322556号公报

专利文献4：日本专利公开2009-031705号公报

专利文献5：日本专利第4395844号公报

然而，虽然由纯Ag构成的Ag膜的反射率或透射率等光学特性优异，但耐环境性 (对于耐湿环境的耐性)不够充分，因此在使用环境下反射率或透射率等光学特性下 降，因此在长期使用中存在可靠性问题。

并且，上述发光元件或显示器中，在其制造过程中进行高温热处理，因此有可能 在经热处理之后Ag膜或Ag合金膜的反射率下降，而无法发挥充分的特性。因此要求 在尽可能维持接近纯Ag膜的高反射率的同时，反射率在热处理之后也不下降的Ag 合金膜。

此外，将由纯Ag构成的Ag膜用作配线时，存在导致在湿热环境下产生粒子生长 并使比电阻值变动的问题。并且，纯Ag的耐盐水性、耐热性、耐湿性等各种耐性不 够充分，因此有可能导致Ag膜在使用环境下或制造工艺中变质。

发明内容

该发明鉴于上述情况而完成，其目的在于提供一种能够形成如下Ag合金膜的Ag 合金膜形成用溅射靶、Ag合金膜、由该Ag合金膜构成的Ag合金导电膜、Ag合金反 射膜及Ag合金半透明膜，即所述Ag合金膜的反射率或透射率等光学特性优异且具有 较低的比电阻值，并且耐热性、耐环境性等各种耐性优异，反射率在热处理之后也不 会产生大的变化，反射率或透射率等光学特性及比电阻值在使用环境下也不会产生大 的变化。

为了解决上述课题，本发明的Ag合金膜形成用溅射靶，其中，其具有如下组成， 即0.2原子％以上2.0原子％以下的Sb、0.05原子％以上1.00原子％以下的Mg，余量 由Ag和不可避免杂质构成。

如此构成的本发明的Ag合金膜形成用溅射靶中，Sb的含量为0.2原子％以上，因 此能够提高耐热性及耐环境性，并且在成膜后的制造过程中即便进行热处理等也能够 抑制反射率产生大的变化，并且即便长期使用反射率或透射率等光学特性及比电阻值 也不会产生大的变化。并且，Sb的含量为2.0原子％以下，因此在刚成膜之后也能够 确保优异的光学特性和较低的比电阻值。

并且，Mg的含量为0.05原子％以上，因此能够抑制Ag的粒子生长，且通过与 Sb的协同效应能够大幅提高耐热性，并且也能够提高耐盐水性。并且，Mg的含量为 1.00原子％以下，因此能够确保优异的光学特性和较低的比电阻值，并且在湿热环境 下能够抑制反射率或透射率等光学特性及比电阻值产生较大变化。

鉴于以上几点能够形成如下Ag合金膜，即刚成膜之后的光学特性优异且具有较 低的比电阻值，并且，即便在成膜后的制造过程经历热处理等，反射率也不会产生大 的变化，反射率或透射率等光学特性及比电阻值在使用环境下也不会产生大的变化。

在此，本发明的Ag合金膜形成用溅射靶中所含有的Sb与Mg的原子比优选为1.0 ≤Sb/Mg≤40.0。

此时，能够形成在湿热环境下的反射率及电阻值的变化较少的Ag合金膜。

本发明的Ag合金膜，使用上述Ag合金膜形成用溅射靶来成膜。

如此构成的本发明的Ag合金反射膜，耐热性、耐环境性等各种耐性优异，即便 成膜后的制造过程中经历热处理等，反射率也不会产生大的变化，反射率或透射率等 光学特性及比电阻值在使用环境下不会产生大的变化。

本发明的Ag合金反射膜，使用上述Ag合金膜形成用溅射靶来成膜。

如此构成的本发明的Ag合金反射膜，耐热性、耐环境性等各种耐性优异，即便 在成膜后的制造过程中经历热处理等，反射率也不会下降，反射率在使用环境下也不 会产生大的变化，因此作为LED等发光元件或有机EL或反射型液晶等显示器、或光 记录用光盘等的光反射膜尤为适合。

本发明的Ag合金导电膜，使用上述Ag合金膜形成用溅射靶来成膜。

这样构成的Ag合金导电膜，耐环境性、耐盐水性等各种耐性优异，在使用环境 下不会因腐蚀而产生外观变化，因此作为导电膜尤为优异。

本发明的Ag合金半透明膜，使用上述Ag合金膜形成用溅射靶来成膜。

这样构成的Ag合金半透明膜，耐环境性优异，透射率在使用环境下不会产生大 的变化，因此作为半透明膜尤为优异。

在此，本发明的Ag合金反射膜，波长405～550nm的反射率优选为85％以上。

并且，本发明的Ag合金导电膜，比电阻优选为10μΩ·cm以下。

此外，本发明的Ag合金半透明膜，膜厚15nm以下且波长350～850nm下的平均 透射率优选为35％以上。

如上所述，根据本发明能够提供一种能够形成如下Ag合金膜的Ag合金膜形成用 溅射靶、Ag合金膜、由该Ag合金膜构成的Ag合金导电膜、Ag合金反射膜及Ag合 金半透明膜，即所述Ag合金膜的反射率或透射率等光学特性优异且具有较低的比电 阻值，并且耐热性、耐环境性等各种耐性优异，反射率在热处理后也不会产生大的变 化，反射率或透射率等光学特性及比电阻值在使用环境下也不会产生大的变化。

附图说明

图1为表示实施例2中恒温恒湿试验后的外观观察结果被评为“B”的例子的 照片。

图2为表示实施例2中恒温恒湿试验后的外观观察结果被评为“C”的例子的 照片。

图3为表示实施例2中盐水试验后的外观观察结果及光学显微镜观察结果被 评为“A”的例子的照片。

图4为表示实施例2中盐水试验后的外观观察结果及光学显微镜观察结果被 评为“B”的例子的照片。

图5为表示实施例2中盐水试验后的外观观察结果及光学显微镜观察结果被 评为“C”的例子的照片。

具体实施方式

以下，对本发明的一实施方式即Ag合金膜形成用溅射靶及Ag合金膜进行说 明。

本实施方式的Ag合金膜形成用溅射靶在形成Ag合金膜时使用。在此，本实 施方式的Ag合金膜用作例如作为显示器、发光元件等的光反射层而使用的Ag合 金反射膜、构成形成于触摸面板的板面周缘部的配线的Ag合金导电膜、透明导电 膜或用于红外线阻隔膜的Ag合金半透明膜。

<Ag合金膜形成用溅射靶>

本实施方式的Ag合金膜形成用溅射靶由Ag合金构成，所述Ag合金具有如 下组成：0.2原子％以上2.0原子％以下的Sb、0.05原子％以上1.00原子％以下的 Mg，余量由Ag和不可避免杂质构成。

以下，对如上规定本实施方式的Ag合金膜形成用溅射靶的组成的理由进行说 明。

Sb：0.2原子％以上2.0原子％以下

Sb为具有提高耐热性及耐环境性(对于湿热环境的耐性)的作用效果的元素。

在此，当Sb的含量小于0.2原子％时，耐热性及耐环境性不会充分提高。另 一方面，当Sb的含量超过2.0原子％时，反射率在刚成膜之后也会变低，有可能 无法确保作为反射膜的特性。并且，比电阻值变高且透射率变低，有可能无法确 保作为导电膜或半透明膜的特性。

出于这种理由，本实施方式中将Sb的含量设定在0.2原子％以上2.0原子％ 以下的范围内。另外，为了使上述作用效果可靠地奏效，优选将Sb的含量设定在 0.3原子％以上1.5原子％以下的范围内。

Mg：0.05原子％以上1.00原子％以下

Mg为具有在湿热环境下抑制Ag的粒子生长的作用效果的元素。并且，通过 与如上含有Sb的协同效应，还具有提高高温下的耐热性的作用效果。并且，还具 有提高耐盐水性的作用效果。

在此，当Mg的含量小于0.05原子％时，无法充分抑制粒子生长，且有可能 无法提高耐热性/耐环境性。并且，有可能无法提高耐盐水性。另一方面，当Mg 的含量超过1.00原子％时，反射率在湿热环境下大幅下降，且有可能无法确保作 为反射膜的特性。并且，比电阻值变高且透射率变低，有可能无法确保作为导电 膜或半透明膜的特性。

出于这种理由，本实施方式中将Mg的含量设定在0.05原子％以上1.00原子 ％以下的范围内。另外，为了使上述作用效果可靠地奏效，优选将Mg的含量设定 在0.10原子％以上0.50原子％以下的范围内。

并且，将Mg的含量设定为相对于Sb以原子比计为1.0≤Sb/Mg≤40.0，由此 能够进一步减少湿热环境下的反射率或电阻值的变化。

<Ag合金膜>

如上所述，本实施方式的Ag合金膜被用作显示器、发光元件等的光反射层。 在这些用途中，要求对于特定波长的光的反射率高，或对于较宽的波长范围的光 的反射率高。并且，在显示器或发光元件的制造过程中，形成光反射层之后，例 如实施250℃以上的热处理，因此在热处理之后也需要确保高反射率。此外，为了 提高可靠性，优选反射率在长期使用中也不产生大的变化而保持稳定。

此外，如上所述，本实施方式的Ag合金膜用作作为显示器、发光元件等的光 反射层而使用的Ag合金反射膜、构成形成于触摸面板的板面周缘部的配线的Ag 合金导电膜、透明导电膜或用于红外线阻隔膜的Ag合金半透明膜。在这些用途中， 要求比电阻值要低，或透射率要高，还要求比电阻值或透射率在使用环境也不产 生大的变化而保持稳定。

根据如上构成的本实施方式的Ag合金膜形成用溅射靶及Ag合金膜(Ag合 金反射膜、Ag合金导电膜、Ag合金半透明膜)，Sb的含量被设为0.2原子％以上 2.0原子％以下，因此在刚成膜之后反射率或透射率等光学特性优异，并且具有较 低的比电阻值且耐热性优异，因此，在经过热处理之后也能够抑制反射率产生大 的变化。此外，由于耐环境性优异，因此在长期使用中反射率或透射率等光学特 性及比电阻值也不会产生大的变化。

并且，Mg的含量被设为0.05原子％以上1.00原子％以下，因此刚成膜之后 反射率或透射率等光学特性优异，并且具有较低的比电阻值且能够抑制Ag的粒子 生长，能够提高耐热性及耐环境性。

由于以上几点，能够形成如下Ag合金膜(Ag合金反射膜、Ag合金导电膜、 Ag合金半透明膜)，即在成膜后的制造过程中即便经历热处理等，反射率也优异， 并且具有较低的比电阻值，且反射率或透射率等光学特性及比电阻值在使用环境 下也不会产生大的变化。

并且，本实施方式的Ag合金膜(Ag合金反射膜、Ag合金导电膜、Ag合金 半透明膜)通过上述Ag合金膜形成用溅射靶而成膜，耐热性优异，因此在显示器 或发光元件的制造过程中即便经历250℃以上的较高温的热处理，反射率也不会产 生大的变化。并且，由于耐环境性也优异，因此反射率或透射率等光学特性及比 电阻值在使用环境下也不会产生大的变化而保持稳定。

以上，对本发明的实施方式进行了说明，但本发明并不限于此，在不脱离该 发明的技术思想的范围内可适当进行变更。

例如，本实施方式中对用作作为显示器、发光元件等的光反射层而使用的Ag 合金反射膜、构成形成于触摸面板的板面周缘部的配线的Ag合金导电膜、透明导 电膜或用于红外线阻隔膜的Ag合金半透明膜的Ag合金膜进行了说明，但并不限 于此，也可以应用于其他用途。

实施例

(实施例1)

以下，对评价本发明所涉及的Ag合金膜形成用溅射靶及Ag合金膜(Ag合 金反射膜)的作用效果的评价试验的结果进行说明。

<Ag合金膜形成用溅射靶>

作为熔解原料准备纯度99.9质量％以上的Ag、纯度99.9质量％以上的Sb、 Mg，并称取成为表1所示的规定组成的量。

接着，利用熔解炉在惰性气体气氛中将Ag熔解，在所获熔融Ag中添加Sb 和Mg，并在惰性气体气氛中熔解。之后，将其浇注到铸模中，以制造表1所示组 成的铸块。更具体而言，熔解Ag时，在一度将气氛设为真空(5×10^-2Pa以下) 之后用Ar气置换的气氛中进行。并且，在Ar气气氛中添加Sb、Mg。

接着，对所获铸块以轧制率70％进行冷轧而获得板材之后，在大气中实施以 600℃保持2小时的热处理。并且，通过实施机械加工来制作具有直径152.4mm、 厚度6mm尺寸的本发明例1～9的组成的溅射靶及比较例1～4的组成的溅射靶。

并且，作为以往例准备由纯Ag(纯度99.9质量％以上)构成的与上述尺寸相 同的溅射靶。

<Ag合金反射膜>

利用上述本发明例1～9、比较例1～4的溅射靶，在以下条件下形成Ag合金 膜(Ag合金反射膜)。

利用铟焊料将上述本发明例1～9、比较例1～4的溅射靶焊接于无氧铜制垫 板，以构成靶复合体，并将其安装到溅射装置，在距玻璃基板(Corning Incorporated 制EAGLE XG)的距离：70mm、功率：直流250W、极限真空度：5×10^-5Pa、Ar 气压：0.6Pa的条件下实施溅射，以制作在玻璃基板的表面形成具有厚度为100nm 的Ag合金膜(Ag合金反射膜)的试样。

另外，利用铟焊料将上述以往例的溅射靶焊接于无氧铜制垫板来构成靶复合 体，并将其安装到溅射装置，在与上述条件相同的条件下制作在玻璃基板上形成 厚度为100nm的Ag膜(Ag反射膜)的试样。

<反射率的测定>

通过分光光度仪，并使用波长为800nm至400nm范围的光来测定如上获得的 刚成膜后的Ag合金膜(Ag合金反射膜)及Ag膜(Ag反射膜)的反射率R₀。将 波长405nm的光的反射率示于表1，将波长450nm的光的反射率示于表2，将波 长550nm的光的反射率示于表3。

<耐热试验>

在氮气氛中以温度500℃、保持时间为1小时的条件对上述试样进行热处理。

以与上述方法相同的方法测定该耐热试验后的Ag合金膜(Ag合金反射膜) 及Ag膜(Ag反射膜)的反射率R₁。并求出耐热试验前后的反射率的变化量(R₁-R₀)。 将耐热试验后的波长405nm的光的反射率及反射率的变化量示于表1，将耐热试 验后的波长450nm的光的反射率及反射率的变化量示于表2，将耐热试验后的波 长550nm的光的反射率及反射率的变化量示于表3。

<恒温恒湿试验(耐湿试验)>

将上述试样在温度85℃、湿度85％的恒温恒湿槽中放置250小时。

以与上述方法相同的方法测定该恒温恒湿试验后的Ag合金膜(Ag合金反射 膜)及Ag膜(Ag反射膜)的反射率R₂。并求出恒温恒湿试验前后的反射率的变 化量(R₂-R₀)。将恒温恒湿试验后的波长405nm的光的反射率及反射率的变化量 示于表1，将恒温恒湿试验后的波长450nm的光的反射率及反射率的变化量示于 表2，将恒温恒湿试验后的波长550nm的光的反射率及反射率的变化量示于表3。

[表1]

波长405nm下的反射率

[表2]

波长450nm下的反射率

[表3]

波长550nm下的反射率

Sb的含量比本发明的范围少的比较例1中，波长分别为405nm，450nm，550nm 时，耐热试验后的反射率均低，恒温恒湿试验前后的反射率的变化量均大。

Sb的含量比本发明的范围多的比较例2中，波长分别为405nm，450nm，550nm 时，刚成膜之后的反射率均低。

Mg的含量比本发明的范围少的比较例3中，波长分别为405nm，450nm，550nm 时，耐热试验后的反射率均低。

Mg的含量比本发明的范围多的比较例4中，波长分别为405nm，450nm，550nm 时，恒温恒湿试验前后反射率均产生大的变化。

由纯Ag构成的以往例中，波长分别为405nm，450nm，550nm时，耐热试验 后的反射率均低，恒温恒湿试验前后的反射率的变化量均大。

而Sb、Mg的含量在本发明的范围内的本发明例1～9中，刚成膜之后的反射 率在波长分别为405nm，450nm，550nm时均高，耐热试验后的反射率也均高。并 且确认到恒温恒湿试验前后的反射率的变化量也小，反射率保持稳定。

根据以上几点确认到，根据本发明例能够提供反射率高，并且耐热性及耐环 境性优异的Ag合金膜(Ag合金反射膜)及可形成该Ag合金膜(Ag合金反射膜) 的Ag合金膜形成用靶。

(实施例2)

接着，对评价本发明所涉及的Ag合金膜形成用溅射靶及Ag合金膜(Ag合 金导电膜)的作用效果的评价试验的结果进行说明。

<Ag合金膜形成用溅射靶>

作为熔解原料准备纯度99.9质量％以上的Ag、纯度99.9质量％以上的Sb、 Mg，并称取成为表4所示的规定组成的量。

接着，利用熔解炉在惰性气体气氛中将Ag熔解，在所获熔融Ag中添加Sb 和Mg，并在惰性气体气氛中熔解。之后，将其浇注到铸模中，以制造表4所示组 成的铸块。更具体而言，熔解Ag时，在一度将气氛设为真空(5×10^-2Pa以下) 之后用Ar气置换的气氛中进行。并且，在Ar气气氛中添加Sb、Mg。

接着，对所获铸块以轧制率70％进行冷轧而获得板材之后，在大气中实施以 600℃保持2小时的热处理。并且，通过实施机械加工来制作具有直径152.4mm、 厚度6mm尺寸的本发明例11～17的组成的溅射靶及比较例11～14的组成的溅射 靶。并且，作为以往例准备由纯Ag(纯度99.9质量％以上)构成的具有与上述尺 寸相同尺寸的溅射靶。

<Ag合金导电膜>

利用上述本发明例11～17、比较例11～14的溅射靶，在以下条件下成膜Ag 合金膜(Ag合金导电膜)。

利用铟焊料将上述本发明例11～17、比较例11～14的溅射靶焊接于无氧铜 制垫板，以构成靶复合体，并将其安装到溅射装置，在距玻璃基板(Corning  Incorporated制eagle XG)的距离：70mm、功率：直流250W、极限真空度：5× 10^-5Pa、Ar气压：0.6Pa的条件下实施溅射，以制作在玻璃基板的表面形成具有厚 度为100nm的Ag合金膜(Ag合金导电膜)的试样。

另外，利用铟焊料将上述以往例的溅射靶焊接于无氧铜制垫板来构成靶复合 体，并将其安装到溅射装置，在与上述条件相同的条件下制作在玻璃基板上形成 厚度为100nm的Ag膜(Ag反射膜)的试样。

<成膜后的比电阻值>

通过四探针法测定如上获得的Ag合金膜(Ag合金导电膜)及Ag膜(Ag反 射膜)的薄膜电阻值，并计算比电阻值。将所获成膜后的比电阻值示于表4。

<恒温恒湿试验>

将上述试样在温度85℃、湿度85％的恒温恒湿槽中放置250小时。

目测该恒温恒湿试验后的试样外观，将恒温恒湿试验前后无外观变化的评为 “B”，将确认到因腐蚀而出现斑点或白浊的评为“C”。将评价结果示于表4。 另外，将被评为“B”的外观观察结果的一例示于图1，将被评为“C”的外观观 察结果一例示于图2。在此，图1、2中黑影为摄像机镜头的影子，图2的大大小 小的白色圈表示白浊点。

<盐水试验>

将基板作为附带ITO膜(厚度10nm)的玻璃基板，而在上述条件下成膜Ag 合金膜(Ag合金导电膜)及Ag膜(Ag导电膜)，以制作试样。

将该试样在5％NaCl水溶液中浸泡12小时，将其取出之后通过目测及光学显 微镜观察外观。将在光学显微镜观察中未确认到外观变化的评为“A”，将目测时 未失去光泽但通过光学显微镜观察时确认到黑斑的评为“B”，将目視确认到因腐 蚀而出现的白浊的评为“C”。将评价结果示于表4。另外，将被评为“A”的外 观观察结果及光学显微镜观察结果的一例示于图3，将被评为“B”的外观观察结 果及光学显微镜观察结果的一例示于图4，将被评为“C”的外观观察结果及光学 显微镜观察结果的一例示于图5。

[表4]

Sb的含量比本发明的范围少的比较例11中，在恒温恒湿试验后的外观观察 中确认到腐蚀，并确认到耐湿性不够充分。

Sb的含量比本发明的范围多的比较例12中，成膜后的比电阻值变高。

Mg的含量比本发明的范围少的比较例13中，在盐水试验后的外观观察中确 认到腐蚀，并确认到耐盐水性不够充分。

Mg的含量比本发明的范围多的比较例14中，成膜后的比电阻值变高。

在由纯Ag构成的以往例中，在恒温恒湿试验后及盐水试验后的外观观察中确 认到腐蚀，且耐湿性及耐盐水性不够充分。

相对于此，Sb、Mg的含量在本发明的范围内的本发明例11～17中，成膜后 的比电阻值较低，并且，恒温恒湿试验后及盐水试验后的外观观察中未确认到腐 蚀。

根据以上几点确认到，根据本发明例能可提供一种比电阻值较低，并且耐湿 性及耐盐水性优异的Ag合金膜(Ag合金导电膜)及Ag合金膜形成用溅射靶。

(实施例3)

接着，对评价使用实施例2的溅射靶而形成的Ag合金膜(Ag合金半透明膜) 的作用效果的评价试验的结果进行说明。

<Ag合金膜(Ag合金半透明膜)>

将上述溅射靶安装到溅射装置，在距玻璃基板(Corning Incorporated制eagle  XG)的距离：70mm、功率：直流250W、极限真空度：5×10^-5Pa、Ar气压：0.6Pa 的条件下实施溅射，以制作在玻璃基板的表面形成具有表5所示的厚度的Ag合金 膜(Ag合金半透明膜)的试样。

并且，使用上述以往例的溅射靶，以相同条件制作在玻璃基板上形成具有表 5所示的膜厚的Ag膜(Ag半透明膜)的试样。

另外，Ag合金半透明膜的膜厚的测定如下进行，通过椭圆偏振光谱仪(例如， HORIBA Jobin Yvon公司制UNISEL NIR AGM)，在波长260～2100nm的范围测 定在玻璃基板上成膜的半透明Ag合金膜的光学参数δ、ψ，并通过对它们进行解 析以计算膜厚。此外，也可通过透射电子显微镜(TEM)来观察膜的剖面来确认 Ag合金半透明膜的膜厚。制作通过TEM观察剖面用试样时，例如能够利用截面 抛光机(CP)或聚离子束法(FIB)等。

<成膜后的比电阻值>

通过四探针法测定如上获得的Ag合金膜(Ag合金半透明膜)及Ag膜(Ag 半透明膜)的薄膜电阻值，并计算比电阻值。将所获成膜后的比电阻值示于表6。

<透射率测定>

通过分光光度仪(JASCO Corporation制Ubest系列)，在波长850nm～350nm 的范围测定Ag合金膜(Ag合金半透明膜)及Ag膜(Ag半透明膜)的透射率。 测定透射率时，一开始在不设置基板的中空状态下进行测定，以进行分光光度仪 校准。接着，测定未形成Ag合金膜(Ag合金半透明膜)及Ag膜(Ag半透明膜) 的玻璃基板的透射率Ts，之后测定形成有Ag合金膜(Ag合金半透明膜)及Ag 膜(Ag半透明膜)的玻璃基板的透射率Tt，将Ag合金膜(Ag合金半透明膜)及 Ag膜(Ag半透明膜)的透射率Tf作为Tf＝Tt/Ts而计算。将测定结果示于表6。 另外，表5所示的透射率为波长850nm～350nm范围的平均值。

<恒温恒湿试验>

将上述试样在温度85℃、湿度85％的恒温恒湿槽中放置250小时。

以与上述方法相同的方法测定该恒温恒湿试验后的Ag合金膜(Ag合金半透 明膜)及Ag膜(Ag半透明膜)的比电阻值与透射率Tf₁。将测定结果示于表6。

并且，求出恒温恒湿试验前后的比电阻值的变化率。并且，求出恒温恒湿试 验前后的透射率的变化量(Tf₁-Tf₀)。将恒温恒湿试验前后的比电阻值的变化率及 透射率的变化量示于表6。

[表5]

[表6]

Sb的含量比本发明的范围少的比较例21中，在恒温恒湿试验前后比电阻值 产生大的变化。

Sb的含量比本发明的范围多的比较例22中，成膜后的比电阻值高，并且透 射率低。此外，在恒温恒湿试验前后比电阻值产生大的变化。

Mg的含量比本发明的范围少的比较例23中，在恒温恒湿试验前后透射率产 生大的变化。

Mg的含量比本发明的范围多的比较例24中，成膜后的比电阻值高，并且透 射率低。此外，在恒温恒湿试验前后比电阻值产生大的变化。

由纯Ag构成的以往例中，在热处理前后比电阻值、透射率产生大的变化。

相对于此，Sb、Mg的含量在本发明的范围内的本发明例21～29中，成膜后 的比电阻值低，并且透射率高，在恒温恒湿试验前后比电阻值及透射率未产生大 的变化而保持稳定。

根据以上几点确认到，根据本发明例可提供一种比电阻值低且透射率高，并 且耐热性、耐湿性及耐盐水性优异的Ag合金膜(Ag合金半透明膜)及Ag合金膜 形成用溅射靶。

产业上的可利用性

根据本发明的Ag合金膜形成用溅射靶，能够形成在长期使用中各种耐性优 异，光学特性的稳定的Ag合金膜、Ag合金导电膜、Ag合金反射膜及Ag合金半 透明膜。