感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法、抗蚀剂膜、电子元件的制造方法及电子元件

摘要

本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用其的图案形成方法、抗蚀剂膜、电子元件的制造方法及电子元件，上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的曝光宽容度(EL)及线宽粗糙度(LWR)优异，进而阶差基板上的间隙图案的显影性优异，尤其适于利用有机溶剂显影的负型图案形成方法，其中也适于KrF曝光。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂(A)，该树脂(A)含有芳香族基及(i)具有因酸的作用发生分解而产生极性基的基团的重复单元，也可含有(ii)具有酚性羟基以外的极性基的重复单元，并且相对于树脂(A)中的所有重复单元，上述(i)及(ii)的重复单元的合计量为51mol％以上。