公开/公告号CN104775153A
专利类型发明专利
公开/公告日2015-07-15
原文格式PDF
申请/专利权人 西南应用磁学研究所;
申请/专利号CN201510231466.7
申请日2015-05-08
分类号C30B19/00(20060101);
代理机构深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙);
代理人胡吉科
地址 621000 四川省绵阳市高新区滨河北路西段268号
入库时间 2023-12-18 09:43:13
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-07-20
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B19/00 申请公布日:20150715 申请日:20150508
发明专利申请公布后的驳回
2015-08-12
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B19/00 申请日:20150508
实质审查的生效
2015-07-15
公开
公开
机译: 用于制造用于单晶材料外延生长的顺应性基板的光辅助沉积方法
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