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新型磁光单晶材料生长方法

摘要

本发明涉及一种新型磁光材料的生长技术和光纤通信领域,特别涉及一种液相外延法生长掺Bi稀土石榴石薄膜(ReBi)3Fe5O12的生长技术,包括如下步骤:(A)将纯度为将纯度99.99%以上的PbO、B2O3、Bi2O3、Fe2O3、Re2O3粉料按确定的比例混合均匀后装入铂坩埚中,再放入液相外延炉中;(B)对铂坩埚中的原材料进行加热并旋转,使之充分融化并且成分均匀。本发明的有益效果是:液相外延法生长掺Bi磁光薄膜,不但大大缩短的生长周期,并且厚度能达到几百微米,既能达到旋光率的要求,又便于加工,减小磁光器件的体积和重量,实现器件集成化。

著录项

  • 公开/公告号CN104775153A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-07-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西南应用磁学研究所;

    申请/专利号CN201510231466.7

  • 发明设计人 陈运茂;姜帆;游斌;任仕晶;

    申请日2015-05-08

  • 分类号C30B19/00(20060101);

  • 代理机构深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙);

  • 代理人胡吉科

  • 地址 621000 四川省绵阳市高新区滨河北路西段268号

  • 入库时间 2023-12-18 09:43:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-20

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B19/00 申请公布日:20150715 申请日:20150508

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2015-08-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B19/00 申请日:20150508

    实质审查的生效

  • 2015-07-15

    公开

    公开

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