公开/公告号CN104765078A
专利类型发明专利
公开/公告日2015-07-08
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;
申请/专利号CN201510190378.7
申请日2015-04-21
分类号
代理机构长春菁华专利商标代理事务所;
代理人王丹阳
地址 130033 吉林省长春市东南湖大路3888号
入库时间 2023-12-18 09:43:13
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-12-21
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02B1/10 申请公布日:20150708 申请日:20150421
发明专利申请公布后的视为撤回
2015-08-05
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B1/10 申请日:20150421
实质审查的生效
2015-07-08
公开
公开
机译: 具有极紫外光谱纯度和抗辐射损伤性的多层膜
机译: 极紫外曝光用掩模,极紫外曝光用掩模坯料,极紫外曝光用掩模的制造方式以及多层膜
机译: 具有极高紫外光谱纯度和热稳定性的多层膜