极紫外Mg/Si多层膜的改进和表征

摘要

本文研究通过在Mg/Si多层膜引入Mo或SiC阻隔层的界面工程法来提高多层膜的光学性能。采用磁控溅射法镀制多层膜，X射线和极紫外反射法表征多层膜。测试结果表明，引入双层SiC阻隔层的Mg/SiC/Si/SiC多层膜与Mg/Si相比，界面质量和光学性能都有了极大的提高，在30nm处10度入射条件下，反射率从5.2％提高到40.2％。