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一种碱性化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用

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本发明涉及一种碱性化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用，其中碱性化学机械抛光液包含：研磨颗粒，唑类化合物，有机羧酸，C

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公开/公告号CN104726869A

专利类型发明专利
公开/公告日2015-06-24

原文格式PDF
申请/专利权人安集微电子(上海)有限公司;
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申请/专利号CN201310697614.5
发明设计人周文婷;
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申请日2013-12-18
分类号
代理机构上海翰鸿律师事务所;
代理人李佳铭
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室
入库时间 2023-12-18 09:33:32

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-08-11

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23F3/04 申请公布日:20150624 申请日:20131218

发明专利申请公布后的视为撤回
2015-06-24

公开

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