自沉积型用于铜的表面处理剂和带树脂被膜的含铜基材的制造方法

摘要

本发明的目的在于，提供通过自沉积而能够在铜材料上形成密合性·耐腐蚀性·电特性优异的被膜、液体稳定性优异的自沉积型用于铜的表面处理剂。本发明的自沉积型用于铜的表面处理剂含有1～60质量份的水溶性或水分散性聚合物、30～99质量份的以水为主体的溶剂、和0.01～5质量份的铜络合剂，pH3.0时的氧化还原电位在-500～＋200mV（vs.SHE）的范围内。