首页> 中国专利> 用于微结构受控制的薄膜沉积的离子化物理汽相沉积

用于微结构受控制的薄膜沉积的离子化物理汽相沉积

摘要

描述了一种于PVD腔室中处理基板的方法,该PVD腔室包含靶材、基板以及处理气体,所述处理气体处在足以造成自该靶材溅射的物种的实质部份离子化的压力。通过施加甚高频功率至靶材,以维持电容耦合高密度等离子体。由于施加至基板的高频偏压功率,溅射的材料于等离子体中离子化,并朝基板加速。通过修饰压力及高频偏压功率中的一或多个,控制所产生的薄膜的微结构。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-08-26

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L31/042 申请公布日:20121128 申请日:20100611

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2013-01-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/042 申请日:20100611

    实质审查的生效

  • 2012-11-28

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号