用于在相同芯片上形成具有多个掺杂的鳍片场效晶体管的方法及结构

摘要

一种用于制造集成电路的特征的方法包括：在半导体器件的表面上构图第一半导体结构，以及在所述第一半导体结构的相对侧上外延生长半导体材料以形成鳍片。将第一倾斜离子注入施加于所述第一半导体结构的一侧以掺杂所述一侧上的各鳍片。选择性地去除所述第一半导体结构以暴露所述鳍片。使用所述鳍片形成鳍片场效晶体管。