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邻硝基苄酯化合物及包含它的正型光敏树脂组合物

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摘要

本发明提供了包括由化学式1表示的化合物的邻硝基苄酯化合物，和包含该邻硝基苄酯化合物的正型光敏树脂组合物。本发明还提供了一种利用该正型光敏树脂组合物制造的光敏树脂膜和包括该光敏树脂膜的半导体器件。本发明的正型光敏树脂组合物具有优异的灵敏度、分辨率、图案外观和残余物除去性能。[化学式1]

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-12-03

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C07C205/42 申请公布日:20120704 申请日:20110928

发明专利申请公布后的视为撤回
2012-09-05

实质审查的生效 IPC(主分类):C07C205/42 申请日:20110928

实质审查的生效
2012-07-04

公开

公开

1. 邻硝基苄酯化合物及包含它的正型光敏树脂组合物 [P] . 中国专利： CN102531910A . 2012-07-04
2. 正型光敏树脂组合物、利用其制造的光敏树脂层、和包含该光敏树脂层的半导体器件 [P] . 中国专利： CN102540724A . 2012-07-04
3. Ortho-Nitrobenzyl Ester Compound and Positive Type Photosensitive Resin Composition Including the Same [P] . 美国专利： US2012156622A1 . 2012-06-21

机译：邻硝基硝基苄酯化合物和包括其的正型光敏树脂组合物
4. Ortho-nitrobenzyl ester compound and positive type photosensitive resin composition including the same [P] . 美国专利： US8592131B2 . 2013-11-26

机译：邻硝基苄基酯化合物和包括该化合物的正型光敏树脂组合物
5. ORTHO-NITROBENZYL ESTER COMPOUND HAVING ABILITY RESTRAINING THE DISSOLUTION OF AN ALKALI-DEVELOPABLE RESIN IN NON-EXPOSURE PART, AND A POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME [P] . 韩国专利： KR20120066924A . 2012-06-25

机译：能够抑制非暴露部分的碱可显影树脂和构成该感光材料的正型光敏树脂组合物的邻硝基苯甲酸酯化合物