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一种用于曝光机对准的光罩及光罩对准标记制作方法

摘要

本发明公开了一种用于曝光机对准的光罩及光罩对准标记制作方法,用以解决现有技术中由于光罩更换过程中由于光罩对准不准确,影响曝光产品的精度的问题。该光罩包括第一组对准标记,第二组对准标记和第三组对准标记中的至少两组,每组对准标记位于经过光罩中心点的横轴和纵轴上。由于在本发明实施例中该用于曝光机台校准的光罩包括至少两组对准标记,因此扩大了采用该光罩进行对准的曝光机台的范围,减小了在每次曝光过程中更换光罩的可能性,从而降低了曝光过程中产生的误差,提高了曝光产品的精度。

著录项

  • 公开/公告号CN102566255A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-07-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201010621803.0

  • 发明设计人 戴新华;徐国刚;赵志敏;马玉玲;

    申请日2010-12-27

  • 分类号G03F1/42;G03F7/20;G03F9/00;

  • 代理机构北京同达信恒知识产权代理有限公司;

  • 代理人黄志华

  • 地址 100871 北京市海淀区成府路298号方正大厦9层

  • 入库时间 2023-12-18 05:55:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-01-07

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F1/42 申请公布日:20120711 申请日:20101227

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2012-09-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/42 申请日:20101227

    实质审查的生效

  • 2012-07-11

    公开

    公开

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