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在GaAs衬底上制备金属纳米颗粒的方法

摘要

本发明公开了一种在GaAs衬底上制备金属纳米颗粒的方法,该方法包括:在GaAs衬底正反面各淀积一层SiO2进行保护;在GaAs衬底的正面再蒸镀一层金属铝膜;将蒸镀有金属铝膜的GaAs衬底在阳极氧化浴槽中进行阳极氧化;将氧化后的GaAs衬底在磷酸溶液中腐蚀扩孔;采用Ar离子轰击完全去除阻挡层,得到完全通孔的阳极氧化铝模板;将表面制备有阳极氧化铝模板的GaAs衬底进行电子束蒸发金属填孔;以及去除表面的阳极氧化铝膜,在GaAs衬底表面得到均匀的金属纳米颗粒。利用本发明,避免了采用已制备好的阳极氧化铝模板转移到半导体材料衬底过程中模板易碎、模板与衬底之间接触不好、以及引入污染等问题。

著录项

  • 公开/公告号CN102433529A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-05-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN201110440640.0

  • 申请日2011-12-26

  • 分类号C23C14/04(20060101);C23C14/24(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人周国城

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2023-12-18 05:12:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-08-06

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C14/04 申请公布日:20120502 申请日:20111226

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2012-06-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/04 申请日:20111226

    实质审查的生效

  • 2012-05-02

    公开

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