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带有MOSFET和低正向电压的等效二极管增强型JFET的半导体器件及其制备方法

摘要

提出了一种带有集成的MOSFET和等效增强型JFET的半导体芯片。MOSFET-JFET芯片包括类型-1导电类型的公共半导体衬底区(公共半导体衬底区)。MOSFET器件和等效增强型JFET(等效二极管增强型JFET)器件位于公共半导体衬底区上方。等效二极管增强型JFET器件具有公共半导体衬底区,作为其等效二极管增强型JFET漏极。至少两个类型-2导电类型的等效二极管增强型JFET栅极区位于等效二极管增强型JFET漏极上方,并且在水平方向上相互分离,带有等效二极管增强型JFET栅极间距。至少一个类型-1导电类型的等效二极管增强型JFET源极位于公共半导体衬底区上方,以及等效二极管增强型JFET栅极之间。顶部等效二极管增强型JFET电极位于等效二极管增强型JFET栅极区和等效二极管增强型JFET源极区上方,并与它们相接触。如果配置得合适,等效二极管增强型JFET会同时具有大幅低于PN结二极管的正向电压Vf,以及可以与PN结二极管相比拟的反向漏电流。

著录项

  • 公开/公告号CN102437187A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-05-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 万国半导体股份有限公司;

    申请/专利号CN201110306022.7

  • 发明设计人 雷燮光;王薇;

    申请日2011-09-26

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L29/861(20060101);H01L27/07(20060101);H01L21/82(20060101);H02J7/00(20060101);

  • 代理机构31213 上海新天专利代理有限公司;

  • 代理人王敏杰

  • 地址 美国加利福尼亚州桑尼维尔奥克米德大道475号

  • 入库时间 2023-12-18 05:04:15

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