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一种能有效抗灰迹的KTP晶体的制备方法

摘要

本发明涉及一种能有效抗灰迹的KTP晶体的制备方法,步骤如下1)采用顶端籽晶+提拉的方法,缓慢降温,稍高一点提速;2)提高熔质浓度,提高其实生长温度;3)溶剂组成提高;4)用[100]方向籽晶,单生长区;5)添加PbO,起始生长温度~1007℃,降温78℃,0.5~3℃/天,45天,拉速0.1~0.9mm/天,正反转动60~20rpm。本发明采用采用顶端籽晶+提拉的方法来制备KTP晶体,降低了KTP晶体的吸收系数,能有效的抵抗灰迹产生,使KTP晶体的倍频转换效率得到增强。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-01-08

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C30B9/08 申请公布日:20111116 申请日:20100514

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-11-16

    公开

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