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一种8-羟基喹啉铝为修饰层的C60有机场效应晶体管

摘要

一种8-羟基喹啉铝为修饰层的C60有机场效应晶体管,包括栅电极、复合绝缘层、有源层、修饰层和源漏电极,其中修饰层为8-羟基喹啉铝并作为电极/有源层的阻挡层,栅电极为重掺杂磷的硅衬底,复合绝缘层包括SiO

著录项

  • 公开/公告号CN102222766A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-10-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津理工大学;

    申请/专利号CN201110122095.0

  • 发明设计人 程晓曼;郑宏;赵赓;田海军;

    申请日2011-05-12

  • 分类号H01L51/05;H01L51/30;H01L51/10;H01L51/40;

  • 代理机构天津佳盟知识产权代理有限公司;

  • 代理人侯力

  • 地址 300384 天津市南开区红旗南路延长线天津理工大学主校区

  • 入库时间 2023-12-18 03:34:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-04-10

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L51/05 申请公布日:20111019 申请日:20110512

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-11-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L51/05 申请日:20110512

    实质审查的生效

  • 2011-10-19

    公开

    公开

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