用以改善处理腔室清洁间隔的平均时间的加长腔室衬垫

摘要

本文提供用于半导体处理腔室的衬垫的实施例。在一些实施例中，用于半导体处理腔室的衬垫包括第一部分，其经配置以作为处理腔室的内部体积至少一部分的衬垫；及第二部分，其经配置以作为处理腔室的泵口至少一部分的衬垫。在一些实施例中，第一部分及第二部分连接在一起。在一些实施例中，衬底的第一部分及第二部分可制造为单件。在一些实施例中，衬底可置于具有内部体积及泵口的处理腔室中，其中该泵口与该内部体积呈流体连接。