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复合氮化物半导体结构的外延成长

摘要

在此提出制造复合氮化物半导体结构的设备及方法。III族前驱物和氮前驱物流入第一处理室,以利用热化学气相沉积制程沉积第一层于基材上。基材从第一处理室传送到第二处理室。III族前驱物和氮前驱物流入第二处理室,以利用热化学气相沉积制程沉积第二层于第一层上。第一与第二III族前驱物具有不同的III族元素。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-20

    授权

    授权

  • 2011-12-28

    著录事项变更 IPC(主分类):C30B25/14 变更前: 变更后: 申请日:20070411

    著录事项变更

  • 2011-11-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B25/14 申请日:20070411

    实质审查的生效

  • 2011-09-07

    公开

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