法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-01-20
授权
授权
2011-12-28
著录事项变更 IPC(主分类):C30B25/14 变更前: 变更后: 申请日:20070411
著录事项变更
2011-11-16
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B25/14 申请日:20070411
实质审查的生效
2011-09-07
公开
公开
机译: 用于外延沉积由XIII族化学元素的氮化物制成的半导体结构的基板以及用于外延沉积由XIII族化学元素的氮化物制成的半导体结构的基板的制造方法
机译: 半导体外延生长的方法,装置,高密度EPI金属氮化物的低温等离子体产生装置金属和半导体的外延氮化物异质结构
机译: 复合氮化物半导体结构的外延生长