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Sb2Te3-HfO2纳米复合相变材料及其在相变存储器中的用途

摘要

本发明提供一种Sb2Te3-HfO2纳米复合相变材料及其在相变存储器中的用途,其中,所述Sb2Te3-HfO2纳米复合相变材料包含:重量百分比为2-30%的介质材料HfO2和重量百分比为70-98%的Sb2Te3相变材料,由于Sb2Te3相变材料与HfO2在纳米尺度的均匀复合,相变材料分布在介质材料HfO2形成的纳米框架结构中,一方面抑制了相变材料的结晶,提升了材料的晶化温度;另一方面相变材料的挥发得到了有效的抑制,组分偏析情况得到明显改善,增加了材料的稳定性。这种新型纳米复合相变薄膜应用到存储器中,可使相变存储器件的RESET电压降低,有利于实现高密度存储,提高了相变存储器的编程过程中的加热效率,降低了其功耗,提升了数据保持能力、疲劳特性和抗辐照能力等。

著录项

  • 公开/公告号CN102157681A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-08-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201010263978.9

  • 发明设计人 宋三年;宋志棠;吕业刚;

    申请日2010-08-24

  • 分类号H01L45/00(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/34(20060101);

  • 代理机构31219 上海光华专利事务所;

  • 代理人李仪萍

  • 地址 200050 上海市长宁区长宁路865号

  • 入库时间 2023-06-18 19:35:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-01-08

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L45/00 申请公布日:20110817 申请日:20100824

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2011-09-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L45/00 申请日:20100824

    实质审查的生效

  • 2011-08-17

    公开

    公开

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