基于双金属敏感层的激光直写灰度掩模制作方法

摘要

本发明涉及一种用于二元光学元件批量生产的双金属敏感层灰度掩模制作方法，它包括双金属敏感层的制作、灰度掩模曝光控制程序的设计和激光曝光三个步骤。首先在掩模基板表面镀制双金属薄膜，形成双金属敏感层；利用双金属敏感层透过率对于激光强度的敏感特性，采用激光直写方法对双金属敏感层进行曝光，形成透过率与二元光学元件衍射微结构设计信息相匹配的灰度掩模。灰度掩模含有多个二元光学元件的位相信息，再经过一次光刻过程和刻蚀后得到所需要的二元光学元件。由于该灰度掩模可重复使用，因而可用于二元光学元件的批量生产。