首页> 中国专利> 晶片级透镜阵列的制造方法、晶片级透镜阵列、透镜模块及摄像单元

晶片级透镜阵列的制造方法、晶片级透镜阵列、透镜模块及摄像单元

摘要

本发明提供一种晶片级透镜阵列的制造方法、晶片级透镜阵列、透镜模块及摄像单元,该方法在基板部和透镜部为一体的晶片级透镜阵列的成型时,能够防止空气混入成型的基板部或透镜部。作为将基板部和排列在该基板部的多个透镜部一体成型的晶片级透镜阵列的制造方法,将两个在基板部的一方的面一体地设有多个透镜部的透镜阵列成型体分别个体地成型,将各透镜阵列成型体的基板部在与设有透镜部的面相反面侧进行接合而设为一体。

著录项

  • 公开/公告号CN102023323A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士胶片株式会社;

    申请/专利号CN201010263901.1

  • 发明设计人 榊毅史;

    申请日2010-08-25

  • 分类号G02B3/00(20060101);H04N5/335(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人李贵亮

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2023-12-18 02:17:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-05-08

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02B3/00 申请公布日:20110420 申请日:20100825

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-04-20

    公开

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