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含三嗪结构抗紫外线辐射分散染料及其制备方法

摘要

本发明涉及一种抗紫外线辐射的分散染料及其制备方法。为了解决目前服装抗紫外线的方法中存在的不足,本发明提供了一种含三嗪结构抗紫外线辐射分散染料及其制备方法,其通式为(1)

著录项

  • 公开/公告号CN102002253A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-04-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州吉华江东化工有限公司;

    申请/专利号CN201010513158.0

  • 发明设计人 赵德峰;孙岩峰;简卫;陈美芬;

    申请日2010-10-21

  • 分类号C09B29/085;C09B56/00;C09B67/38;D06P1/19;D06P1/18;D06P3/54;

  • 代理机构杭州杭诚专利事务所有限公司;

  • 代理人俞润体

  • 地址 311228 浙江省杭州市萧山区临江工业园区第一农垦场

  • 入库时间 2023-12-18 02:00:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-08-28

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C07D251/22 申请公布日:20110406 申请日:20101021

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-05-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09B29/085 申请日:20101021

    实质审查的生效

  • 2011-04-06

    公开

    公开

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