首页> 中国专利> 在衬底上形成的半圆柱体阵列的制图外延自我组装

在衬底上形成的半圆柱体阵列的制图外延自我组装

摘要

本发明提供利用自我组装嵌段共聚物制造呈成列阵列的亚光刻纳米级微结构的方法以及自所述方法形成的膜和装置。

著录项

  • 公开/公告号CN102015524A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-04-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 美光科技公司;

    申请/专利号CN200980115861.1

  • 申请日2009-04-20

  • 分类号B81C1/00;

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人宋献涛

  • 地址 美国爱达荷州

  • 入库时间 2023-12-18 02:00:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-09-11

    授权

    授权

  • 2011-06-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):B81C1/00 申请日:20090420

    实质审查的生效

  • 2011-04-13

    公开

    公开

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