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一种Super Junction VDMOS器件

摘要

一种Super Junction VDMOS器件,属于半导体功率器件技术领域。本发明在具有平面肖特基接触结构的Super Junction VDMOS器件基础上,引入沟槽式肖特基接触结构:即将多晶硅栅电极在N型柱区上方分成两段;同时将金属源电极在两段多晶硅栅电极之间的区域向下延伸进N型柱区,并在与N型柱区相接触的表面形成沟槽式肖特基接触结构。另外,金属源电极两端也可做成沟槽式欧姆接触结构。本发明提供的Super Junction VDMOS器件,具有较好的反向恢复特性;在同等反向恢复特性要求下,可降低器件制备时对工艺线宽的要求,使器件尺寸更小;而沟槽式欧姆接触结构,可降低器件接触电阻,并改善器件散热性能。两个沟槽式结构可采用同一张掩模板,使得器件的制造成本不会明显增加。

著录项

  • 公开/公告号CN101950759A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-01-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201010264774.7

  • 申请日2010-08-27

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L29/06(20060101);H01L29/417(20060101);H01L29/47(20060101);

  • 代理机构51203 电子科技大学专利中心;

  • 代理人葛启函

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2023-12-18 01:35:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-06-27

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L29/78 公开日:20110119 申请日:20100827

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-03-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20100827

    实质审查的生效

  • 2011-01-19

    公开

    公开

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