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带有通孔的X射线光刻掩模

摘要

本发明公开了一种带有通孔的X射线光刻掩模,包括:一支撑框架,其具有平滑的上表面,用于固定和支撑带有通孔的薄膜;一层带有通孔的薄膜,位于该支撑框架平滑的上表面;以及一组粘附在带有通孔的薄膜之上的吸收体。利用本发明,在抽真空时,通过所述一个或者多个通孔可以有效地排出掩模和衬底之间的残余气体,从而保持掩模和衬底之间的较小空隙。这样一方面防止气体膨胀造成的掩模破裂,另一方面,减小曝光间隙有利于获得比较好的曝光效果。

著录项

  • 公开/公告号CN101846874A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-09-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;

    申请/专利号CN200910080919.5

  • 申请日2009-03-25

  • 分类号G03F1/00;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人周国城

  • 地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号

  • 入库时间 2023-12-18 00:44:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-07-11

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F1/00 公开日:20100929 申请日:20090325

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-11-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/00 申请日:20090325

    实质审查的生效

  • 2010-09-29

    公开

    公开

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