掌桥科研
一站式科研服务平台
科技查新
收录引用
专题文献检索
外文数据库(机构版)
更多产品
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
电子学、通信
>
Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.
Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.
召开年:
召开地:
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
相关中文期刊
实用影音技术
微细加工技术
洗净技术
通信与信息技术
中国有线电视
全球定位系统
雷达与对抗
中国电信业
数字世界
软件产业与工程
更多>>
相关外文期刊
Asia-Pacific Broadcasting Union Technical Review
Journal of The Institute of Electronics Engineers of Korea
Telesis
International Journal of Information Technology,Communications and Convergence
International Journal on Wireless and Optical Communications
Broadcast technology
BT Technology Journal
Radioelectronics and Communications Systems
Pervasive Computing, IEEE
Communications and Networks, Journal of
更多>>
相关中文会议
第三届全国建设事业IC卡应用和技术发展研讨会
第23届中国数字广播电视与网络发展年会暨第14届全国互联网与音视频广播发展研讨会
第十二届通信设备结构与工艺学术会议
第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
第六届博士生学术年会
2009中国卫星通信广播电视应用国际研讨暨展览会第八届国际研讨会
第十一届中国卫星应用产业国际研讨会暨空间基础设施建设与服务高峰论坛
第九届中国通信学会学术年会
'98全国第七届MIC电路及工艺会议
第9届中国卫星通信广播电视技术国际研讨暨新设备展示会
更多>>
相关外文会议
Infrared systems and photoelectronic technology IV
International Symposium on State-of-the-Art-Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCS 35), Sep 2-9, 2001, San Francisco, CA
Micro-Optics II
Conference on Optical Fibers and Their Applications VIII Jan 23-26, 2002 Bialowieza, Poland
Conference on Gallium Nitride Materials and Devices; 20080121-24; San Jose,CA(US)
2017 International Conference on Mechanical, System and Control Engineering
Optical Materials Technology for Energy Efficiency and Solar Energy Conversion X
EUSIPCO 2007;European signal processing conference
Infrared imaging systems: design, analysis, modeling, and testing XXIV
Proceedings of the Fifth ACM international workshop on VehiculAr Inter-NETworking
更多>>
热门会议
Meeting of the internet engineering task force;IETF
日本建築学会;日本建築学会大会
日本建築学会(Architectural Institute of Japan);日本建築学会年度大会
日本建築学会学術講演会;日本建築学会
日本建築学会2010年度大会(北陸)
Korean Society of Noise & Vibration Control;Institute of Noise Control Engineering;International congress and exposition on noise control engineering;ASME Noise Control & Acoustics Division
土木学会;土木学会全国大会年次学術講演会
応用物理学会秋季学術講演会;応用物理学会
総合大会;電子情報通信学会
The 4th International Conference on Wireless Communications, Networking and Mobile Computing(第四届IEEE无线通信、网络技术及移动计算国际会议)论文集
更多>>
最新会议
2011 IEEE Cool Chips XIV
International workshop on Java technologies for real-time and embedded systems
Supercomputing '88. [Vol.1]. Proceedings.
RILEM Proceedings PRO 40; International RILEM Conference on the Use of Recycled Materials in Buildings and Structures vol.1; 20041108-11; Barcelona(ES)
International Workshop on Hybrid Metaheuristics(HM 2007); 20071008-09; Dortmund(DE)
The 57th ARFTG(Automatic RF Techniques Group) Conference, May 25, 2001, Phoenix, AZ
Real Time Systems Symposium, 1989., Proceedings.
Conference on Chemical and Biological Sensing V; 20040412-20040413; Orlando,FL; US
American Filtration and Separations Society conference
Combined structures congress;North American steel construction conference;NASCC
更多>>
全选(
0
)
清除
导出
1.
The novel technique of nanometer-size fabrication by using conventional photolithography
机译:
使用常规光刻技术的纳米级制造新技术
作者:
Shingi Hashioka
;
Hideki Matsumura
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
2.
Structural evolution during the initial epitaxial growth of MO on sapphire
机译:
蓝宝石上MO初始外延生长过程中的结构演变
作者:
P.A.Ryan
;
F.Tsui
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
3.
Resist materials and nanolithography
机译:
抗蚀剂材料和纳米光刻
作者:
Elizabeth A.Dobisz
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
4.
New high resolution liquid crystal electron beam resists
机译:
新型高分辨率液晶电子束抗蚀剂
作者:
A.P.G.Robinson
;
R.E.Palmer
;
T.Tada
;
T.Kanayama
;
M.T.Allen
;
J.A.Preece
;
K.D.M.Harris
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
5.
Molecular scale electronics. Critical nanolithography issues of synthesis and addressing
机译:
分子规模电子学。合成和处理的关键纳米光刻技术问题
作者:
S.Huang
;
E.T.Mickelson
;
A.M.Rawlett
;
C.L.Asplund
;
A.M.Cassell
;
M.Kozaki
;
T.P.Burgin
;
L.Jones
;
J.M.Tour
;
M.L.Myrick
;
P.G.Van Patten
;
J.Chen
;
C.-W.Zhou
;
C.J.Muller
;
M.R.Deshpande
;
M.A.Reed
;
L.A.Bumm
;
M.T.Cygan
;
T.D.Dunbar
;
P.S.Weiss
;
D.L.Allara
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
6.
Localized charge storage in CeO_2/Si(111) by electrostatic force microscopy
机译:
静电力显微镜在CeO_2 / Si(111)中的局部电荷存储
作者:
J.T.Jones
;
P.M.Bridger
;
O.J.Marsh
;
T.C.McGill
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
7.
Lithographic materials technologies: 193 nm imaging and beyond
机译:
光刻材料技术:193 nm及更高成像
作者:
Elsa Reichmanis
;
Omkaram Nalamasu
;
Francis M.Houlihan
;
Allen H.Gabor
;
Mark O.Neisser
;
Murrae J.Bowden
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
8.
Improved algorithm to extract force-distance curves from scanning force microscope data
机译:
从扫描力显微镜数据中提取力距曲线的改进算法
作者:
Steven J.Eppell
;
Brian A.Todd
;
Fredy R.Zypman
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
9.
Gate technology issues for silicon mos nanotransistors
机译:
硅mos纳米晶体管的门技术问题
作者:
D.M.Tennant
;
G.L.Timp
;
L.E.Ocola
;
M.Green
;
T.Sorsch
;
A.Kornblit
;
F.Klemens
;
R.Kleiman
;
D.A.Muller
;
Y.Kim
;
W.Timp
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
10.
Molecular dynamics simulations of solid phase epitaxy of Si: growth mechanism and deffect formation
机译:
Si固相外延的分子动力学模拟:生长机理和缺陷形成
作者:
T.Motooka
;
S.Munetoh
;
K.Nisihira
;
K.Moriguchi
;
A.Shintani
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
11.
Modeling of structural and elastic properties of In_xGa_1-xN alloys
机译:
In_xGa_1-xN合金的结构和弹性特性建模
作者:
Frank Grosse
;
Jorg Neugebauer
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
12.
Nanoscale electron-beam processes and its application to nanodevices
机译:
纳米级电子束工艺及其在纳米器件中的应用
作者:
Masanori Komuro
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
13.
Polymer-inorganic high contrast and high sensitivity resists for nanolithography
机译:
用于纳米光刻的聚合物-无机高对比度和高灵敏度抗蚀剂
作者:
Hengpeng Wu
;
Jianzhao Wang
;
Kenneth E.Gonsalves
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
14.
A new purged UV spectroscopic ellipsometer to characterize 157 n m nanolithographic materials
机译:
一种新型吹扫紫外光谱椭圆仪,用于表征157 n m纳米光刻材料
作者:
Pierre Boher
;
Jean Philippe Piel
;
Patrick Evrard
;
Jean Louis Stehle
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
15.
Nanostructure fabrication using electron beam
机译:
使用电子束的纳米结构制造
作者:
Shinji Matsui
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
16.
Systematic studies of fullerene derivative electron beam resists
机译:
富勒烯衍生物电子束抗蚀剂的系统研究
作者:
A.P.G.Robinson
;
R.E.Palmer
;
T.Tada
;
T.Kanayama
;
E.J.Shelley
;
D.Philp
;
J.A.Preece
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
17.
Fullerene-incorporated nanocomposite resist system for nanolithograpy
机译:
结合富勒烯的纳米复合光刻胶系统
作者:
T.Ishii
;
H.Nozawa
;
E.Kuramochi
;
T.Tamamura
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
18.
Fabrication of isolated nanoparticle circuitry via lensless optical tweezing ('L.O.T.s')
机译:
通过无透镜光学镊子(“ L.O.T.s ”)制造隔离的纳米粒子电路
作者:
M.T.Dearing
;
G.C.Spalding
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
19.
Effects of the electronic structure on the stability of metallic superlattices. Semi-emipirical calculations of the total energy
机译:
电子结构对金属超晶格稳定性的影响。总能量的半经验计算
作者:
A.M.Mazzone
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
关键词:
semi-empirical calculations;
metalic superlattices.;
20.
Effects of interface roughness and embedded nanostructures on device properties
机译:
界面粗糙度和嵌入式纳米结构对器件性能的影响
作者:
D.Z.-Y.Ting
;
T.C.Mcgill
;
N.Y.Chen
;
J.N.Wang
;
R.G.Li
;
Y.Q.Wang
;
W.K.Ge
;
J.N.Schulman
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
21.
Carbon dioxide - dilated block copolymer templates for nanostructured materials
机译:
用于纳米结构材料的二氧化碳膨胀的嵌段共聚物模板
作者:
Garth D. Brown
;
James J.Watkins
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
22.
SPM based lithography for nanometer scale electrodes fabrication
机译:
用于纳米级电极制造的基于SPM的光刻
作者:
A.Notargiacomo
;
E.Giovine
;
E.Cianci
;
V.Foglietti
;
F.Evangelisti
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
23.
Soft X-rays for deep sub-100 NM lithography,with and without masks
机译:
带有和不带有掩膜的X射线深度100米以下深光刻的软X射线
作者:
Henry I.Smith
;
D.J.D.Carter
;
J.Ferrera
;
D.Gil
;
J.Goodberlet
;
J.T.Hastings
;
M.H.Lim
;
M.Meinhold
;
R.Menon
;
E.E.Moon
;
C.A.Ross
;
T.Savas
;
M.Walsh
;
F.Zhang
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
24.
Step bunching during SiGe growth on vicinal Si(111) surfaces
机译:
在相邻的Si(111)表面上进行SiGe生长期间的阶梯成束
作者:
H.Hibino
;
T.Ogino
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
25.
Second derivative ballistic electron emission spectroscopy in Au/(AlGa)As
机译:
Au /(AlGa)As中的二阶导数弹道电子发射光谱
作者:
M.Kozhevnikov
;
V.Narayanamurti
;
D.L.Smith
;
Yi-Jen Chiu
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
26.
Self-organization of steps and domain boundaries of 7x7 reconstruction on Si(111)
机译:
Si(111)上7x7重建的步骤和域边界的自组织
作者:
H.Hibino
;
Y.Homma
;
T.Ogino
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
27.
Resist materials providing small line-edge roughness
机译:
耐腐蚀材料,线边缘粗糙度小
作者:
Hideo Namatsu
;
Toru Yamaguchi
;
Kenji Kurihara
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
28.
Real-time observation of Pt-Si micro-droplet micration by photo-electron emission microscope
机译:
光电子发射显微镜实时观察Pt-Si微滴的微细化
作者:
W.Yang
;
H.Ade
;
R.J.Nemanich
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
29.
Anisotropic organic/inorganic resists: a novel concept for electron proximity effect reduction
机译:
各向异性有机/无机抗蚀剂:减少电子邻近效应的新概念
作者:
Lhadi Merhari
;
Henry H.Li
;
Kenneth E.Gonsalves
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
30.
Realization of detailed kinetic models for the growth of II-Vi compounds adopting DFT calculations and experimental evidences
机译:
利用DFT计算和实验证据实现II-Vi化合物生长的详细动力学模型
作者:
Carlo Cavallotti
;
Valeria Bertani
;
Maurizio Masi
;
Sergio Carra
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
31.
Ion projection lithography for nano patterning
机译:
用于纳米图案化的离子投影光刻
作者:
A.Heuberger
;
W.Bruenger
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
32.
Photo and scanning probe lithography using alkylsilane self-assembled monolayers
机译:
使用烷基硅烷自组装单层的光和扫描探针光刻
作者:
H.Sugimura
;
T.Hanji
;
O.Takai
;
K.Fukuda
;
H.Misawa
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
33.
Optical characterization and process control of top surface imaging
机译:
顶面成像的光学表征和过程控制
作者:
Ying-Ying Luo
;
Craig Stauffer
;
Carlos
;
Ygartua
;
Dinh Chu
;
Clive Hayzelden
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
34.
A kinetic monte carlo model of silicon CVD growth from a mixed H_2/SiH_4 gas source
机译:
H_2 / SiH_4混合气源硅CVD生长的动力学蒙特卡洛模型
作者:
M.Fearn
;
M.Sayed
;
J.H.Jefferson
;
D.J.Robbins
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
35.
A new high performance CA resist for E-beam lithography
机译:
一种用于电子束光刻的新型高性能CA抗蚀剂
作者:
Ranee Kwong
;
Wu-Song Huang
;
Wayne Moreau
;
Robert Lang
;
Christopher Robinson
;
David R.Medeiros
;
Ari Aviram
;
Richard C.Cuarnieri
;
Marie Angelopoulos
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
36.
Multimillion-atom simulations of atomic-level surface stresses and pressure distribution on InAs/GaAs mesas
机译:
InAs / GaAs台面上原子级表面应力和压力分布的数百万原子模拟
作者:
Xiaotao Su
;
Rajiv K.Kalia
;
Anupam Madhukar
;
Aiichiro Nakano
;
Priya Vashishta
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
37.
Cluster model study of the incorporation process of excess arsenic into interstitial positions of the GaAs lattice
机译:
GaAs晶格间隙位置掺入过量砷的聚类模型研究
作者:
T.Marek
;
S.Kunsagi-Mate
;
H.P.Strunk
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
38.
Extending the possibilities of near-field scanning optical microscopy for simultaneous topographical and chemical force imaging
机译:
扩展了近场扫描光学显微镜同时进行地形和化学力成像的可能性
作者:
N.Nagy
;
M.C.Goh
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
39.
Effect of hydrogen coverage on silicon thin film growth: molecular dynamics investigation
机译:
氢覆盖对硅薄膜生长的影响:分子动力学研究
作者:
Shinya Muramatsu
;
Masatoshi Shimada
;
Masahiko Hirao
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
40.
Direct-write electron beam lithography: history and state of the art
机译:
直写式电子束光刻技术:历史和技术水平
作者:
Dustin W.Carr
;
Richard C.Tiberio
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
41.
Diffusion and distribution of photoacid generators in thin polmer films
机译:
光致产酸剂在极化聚合物薄膜中的扩散和分布
作者:
Qinghuang Lin
;
Marie Angelopoulos
;
Katherina Babich
;
David Medeiros
;
Narayan Sundararajan
;
Gina Qeibel
;
Christopher Ober
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
42.
Computer simulation of nucleation on patterned surfaces
机译:
图案化表面上成核的计算机模拟
作者:
A.Kuronen
;
L.Nurminen
;
K.Kaski
会议名称:
《Symposia on Materials Issues and Modeling for Device Nanofabrication held November 29-December 2,1999,Boston,Masschusetts,U.S.A.》
|
1999年
意见反馈
回到顶部
回到首页