栅电介质层形成过程中使用的温度控制系统及方法

摘要

本发明提供了栅电介质层形成过程中使用的温度控制系统及方法，以提高形成栅电介质层的成功率。该系统包括：温度保持单元，用于将温度保持在预定值，所述温度能够影响形成的栅电介质层的性质；当前温度获得单元，用于在栅电介质层形成过程中，获得当前温度；判断单元，用于判断该当前温度是否处于预定范围内；以及控制单元，用于在未处于预定范围内的情况下，控制温度保持单元，使温度处于该预定范围内。