法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-02-10
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G06F 17/50 授权公告日:20121114 终止日期:20141217 申请日:20101217
专利权的终止
2012-11-14
授权
授权
2011-07-20
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20101217
实质审查的生效
2011-05-18
公开
公开
机译: 基于模式匹配的光学邻近校正和集成电路布图验证
机译: 集成电路布图设计方法,布图设计装置及程序
机译: 集成电路布图设计方法,布图设计装置及设计程序