公开/公告号CN101520166A
专利类型发明专利
公开/公告日2009-09-02
原文格式PDF
申请/专利权人 采钰科技股份有限公司;
申请/专利号CN200810100038.0
申请日2008-06-03
分类号F21V19/00;F21V9/10;F21V5/00;H01L23/28;H01L33/00;F21Y101/02;
代理机构隆天国际知识产权代理有限公司;
代理人陈晨
地址 中国台湾新竹市
入库时间 2023-12-17 22:36:00
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-05-11
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):F21V19/00 公开日:20090902 申请日:20080603
发明专利申请公布后的视为撤回
2009-10-28
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-09-02
公开
公开
机译: 等离子体刻蚀系统,用于使用同一模具形成光学元件的模具的制造方法,用于形成光学元件的模具,用于形成光学元件的模具的制造方法,用于制造光学元件的方法以及光学元件
机译: 光学元件加载基体,其制造方法,具有光学波导的光学元件加载基体,其制造方法,具有光纤连接器的光学元件加载基体,其制造方法以及具有光学元件的光学元件加载基体
机译: 制备衍射光学元件的方法,以及用于制造衍射光学元件的模具,以及由制造衍射光学元件的方法和光学系统制造的衍射光学元件,以及应用该衍射方法的光学装置和装置,