公开/公告号CN101520599A
专利类型发明专利
公开/公告日2009-09-02
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申请/专利权人 上海天马微电子有限公司;
申请/专利号CN200810033913.8
申请日2008-02-26
分类号G03F1/14(20060101);G03F7/00(20060101);H01L27/12(20060101);H01L21/84(20060101);H01L21/60(20060101);H01L21/027(20060101);
代理机构
代理人
地址 201201 上海市浦东新区汇庆路889号5层
入库时间 2023-12-17 22:31:46
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-09-05
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F1/14 公开日:20090902 申请日:20080226
发明专利申请公布后的视为撤回
2010-10-20
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/14 申请日:20080226
实质审查的生效
2009-09-02
公开
公开
机译: 用于光刻工艺的光学掩模,制造该光学掩模的方法以及使用该光学掩模在基板上制造图案阵列的方法
机译: 掩模板,使用该掩模板制造阵列基板的方法以及阵列基板
机译: 用于制造生物分子阵列或聚合物阵列的可编程掩模,用于制造包括该可编程掩模的生物分子阵列或聚合物阵列的设备以及使用该可编程掩模制造生物分子阵列或聚合物阵列的方法