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掩模及其设计方法、和使用该掩模制造阵列基板的方法

摘要

本发明涉及一种可以降低新产品阵列基板开发成本的掩模板及其设计方法,该掩模板包括多个第一掩模图形区域,用于通过光刻在玻璃基板上形成多个第一掩模图形,多个第二掩模图形区域,用于通过光刻在玻璃基板上形成多个第二掩模图形,其中所述第一掩模图形区域和所述第二掩模图形区域分别用于阵列基板的不同工艺。该掩模板及其设计方法以及使用该掩模板制造液晶显示装置的阵列基板的方法,可以提高掩模板的使用效率,节省掩模板的费用,从而降低液晶显示装置的成本,尤其是使得新工艺产品在开发和验证时由于掩模板开模费而引起的成本降到最小。

著录项

  • 公开/公告号CN101520599A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-09-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海天马微电子有限公司;

    申请/专利号CN200810033913.8

  • 发明设计人 蒋顺;马骏;汪梅林;

    申请日2008-02-26

  • 分类号G03F1/14(20060101);G03F7/00(20060101);H01L27/12(20060101);H01L21/84(20060101);H01L21/60(20060101);H01L21/027(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 201201 上海市浦东新区汇庆路889号5层

  • 入库时间 2023-12-17 22:31:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-09-05

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F1/14 公开日:20090902 申请日:20080226

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-10-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/14 申请日:20080226

    实质审查的生效

  • 2009-09-02

    公开

    公开

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