法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-01-05
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/20 公开日:20090415 申请日:20081119
发明专利申请公布后的视为撤回
2009-06-10
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-04-15
公开
公开
机译: 具有低偏振诱导双折射的合成二氧化硅,二氧化硅的制造方法以及包含该二氧化硅的光刻装置
机译: 利用扫描探针显微镜进行光刻的方法和装置
机译: 静电纳米光刻探针致动装置和方法