填充高纵横比沟槽隔离区的方法和所得的结构

摘要

一种填充高纵横比沟槽隔离区的方法，其实现较好的间隙填充特性，且避免所述隔离区中的孔隙和接缝。所述方法包含以下步骤：形成沟槽；在所述沟槽的底部和侧壁上形成氧化物层；蚀刻所述氧化物层以使所述沟槽的所述底部暴露；在所述沟槽的所述底部上提供外延硅层；以及在所述外延硅层上提供高质量氧化物化学气相沉积层。