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一种抑制水热条件下ZnO晶体-c轴方向生长的方法

摘要

本发明将公开一种抑制水热条件下ZnO晶体-c轴方向生长的方法,是在利用水热法进行ZnO晶体的生长之前,对ZnO晶体进行下述步骤的处理:1)取ZnO晶体切割出ZnO晶片;2)将切割好的ZnO晶片的-c面与由耐高温、耐腐蚀材料制成的阻挡片固连,得到ZnO籽晶片,所得的ZnO籽晶片即可利用水热法进行ZnO晶体的生长;所述阻挡片的面积应大于水热法进行生长后所得的ZnO晶体成品的-c面的面积。采用该方法可以很好地抑制ZnO晶体的-c轴方向的生长,使晶体只沿着+c轴方向生长,从而达到降低水热法生长ZnO晶体的杂质含量和减少缺陷,提高晶体的质量的目的。

著录项

  • 公开/公告号CN101250746A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-08-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 桂林矿产地质研究院;

    申请/专利号CN200710050552.3

  • 申请日2007-11-16

  • 分类号C30B7/10;C30B29/16;

  • 代理机构桂林市持衡专利商标事务所有限公司;

  • 代理人马兰

  • 地址 541004 广西壮族自治区桂林市辅星路2号

  • 入库时间 2023-12-17 20:41:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-07-14

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C30B7/10 公开日:20080827 申请日:20071116

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-10-22

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-08-27

    公开

    公开

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