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感光化合物、感光组合物、光刻胶图案形成方法和器件制造方法

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本发明提供了能形成具有低LER(线边缘粗糙度)的光刻胶图案的感光化合物。本发明还提供了其中感光化合物溶解于溶剂中的感光组合物，使用该感光组合物的光刻胶图案形成方法，和使用该光刻胶的器件制造方法。本发明的感光化合物是在分子中具有两个或者更多个由下面通式(1)表示的结构单元的感光化合物，其中R

著录项

公开/公告号CN101256358A

专利类型发明专利
公开/公告日2008-09-03

原文格式PDF
申请/专利权人佳能株式会社;
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申请/专利号CN200810004858.X
发明设计人伊藤俊树;山口贵子;
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申请日2008-02-05
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人李帆
地址日本东京
入库时间 2023-12-17 20:36:43

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-03-06

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F7/004 授权公告日:20110622 终止日期:20170205 申请日:20080205

专利权的终止
2011-06-22

授权

授权
2008-10-29

实质审查的生效

实质审查的生效
2008-09-03

公开

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外文文献

1. 感光化合物、感光组合物、光刻胶图案形成方法和器件制造方法 [P] . 中国专利： CN101256358A . 2008-09-03
2. 感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、具备感光化射线性或感放射线性膜的空白掩模、光掩模、图案形成方法、电子器件的制造方法及电子器件 [P] . 中国专利： CN106133601A . 2016-11-16
3. Polymer compound used positive photosensitive composition, in the positive photosensitive composition, method of producing the polymer compound, the positive photosensitive compounds and compositions used in the production of the polymer compound pattern forming method using [P] . 日本专利： JP5183133B2 . 2013-04-17

机译：高分子化合物使用正型感光性组合物，在该正型感光性组合物中，该高分子化合物的制造方法，该正型感光性化合物以及用于制造该高分子化合物的图案形成方法的组合物
4. Positive photosensitive composition, polymer compounds for use in the positive photosensitive composition, manufacturing method of the polymer compounds, compounds for use in the manufacture of the polymer compounds, and pattern-forming method using the positive photosensitive composition [P] . 美国专利： US7629107B2 . 2009-12-08

机译：正型感光性组合物，用于该正型感光性组合物的高分子化合物，该高分子化合物的制造方法，用于该高分子化合物的制造中的化合物以及使用该正型感光性组合物的图案形成方法
5. Positive photosensitive composition, polymer compounds for use in the positive photosensitive composition, manufacturing method of the polymer compounds, compounds for use in the manufacture of the polymer compounds, and pattern-forming method using the positive photosensitive composition [P] . 欧洲知识产权局专利： EP1903395A1 . 2008-03-26

机译：正型感光性组合物，用于该正型感光性组合物的高分子化合物，该高分子化合物的制造方法，用于该高分子化合物的制造中的化合物以及使用该正型感光性组合物的图案形成方法