公开/公告号CN101218684A
专利类型发明专利
公开/公告日2008-07-09
原文格式PDF
申请/专利权人 国际商业机器公司;
申请/专利号CN200580038832.1
申请日2005-11-01
分类号H01L29/792;H01L29/76;H01L29/94;H01L31/00;H01L21/336;
代理机构北京市中咨律师事务所;
代理人于静
地址 美国纽约
入库时间 2023-12-17 20:28:06
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-09-14
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L29/792 公开日:20080709 申请日:20051101
发明专利申请公布后的驳回
2008-09-03
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-07-09
公开
公开
机译: 含氮的场效应晶体管栅叠层,其包含通过沉积金属氧化物形成的阈值电压控制层
机译: 含氮的场效应晶体管栅叠层,其包含通过沉积金属氧化物形成的阈值电压控制层
机译: 通过沉积金属氧化物形成的含氮阈值电压控制层的场效应晶体管栅叠层