用于形成多组分介电薄膜的直接液体注入系统和方法

摘要

本发明提供了用于原子层沉积(ALD)的方法和系统。在一些实施方案中，所提供的系统包括：至少一种直接液体注入系统，其适于将一个或多个沉积前体注入到一个或多个气化室；至少一种鼓泡器系统，其适于气化一个或多个沉积前体；以及处理室，其被连接到所述直接注入系统和所述鼓泡器系统，所述处理室适于从所述直接液体注入和鼓泡器系统中接收沉积前体，并且被调整来实施ALD处理。在另外一个替代的实施方案中，所述系统由两个分开的直接液体注入系统组成。