首页> 中国专利> 高频用磁性薄膜及其制作方法、及磁元件

高频用磁性薄膜及其制作方法、及磁元件

摘要

在衬底(4)上交替地层叠Co系非晶合金层(2)、和该Co系非晶合金(2)的自然氧化层(3)从而形成多层膜(1)。通过使自然氧化层(3)在该多层膜(1)总体的体积中占的比例为5~50%,就得到能够在GHz频带的高频域利用的高频用磁性薄膜及磁元件。也可以交替地层叠具有成膜时磁场外加方向成为易磁化轴的性质的Co系非晶合金层(2)、和该Co系非晶合金的自然氧化层(3)从而形成多层膜(1),该形成的多层膜(1)的易磁化轴与多层膜(1)在成膜时的磁场外加方向正交。

著录项

  • 公开/公告号CN1860561A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-11-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TDK株式会社;

    申请/专利号CN200480028393.1

  • 发明设计人 崔京九;村濑琢;

    申请日2004-09-30

  • 分类号H01F10/16(20060101);H01F10/13(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人孙秀武;邹雪梅

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-12-17 17:55:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-08-18

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01F10/16 公开日:20061108 申请日:20040930

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2007-01-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-11-08

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号