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采用MEMS技术的半导体器件

摘要

根据本发明一个实施例的采用MEMS技术的半导体器件包含:空腔;提供在空腔下部的下电极;提供在空腔上部或内部的致动器;连接到致动器的上电极;以及经由其底部表面被提供在空腔中下电极上部表面上方的接触孔而在空腔外与下电极相接触的导电层。

著录项

  • 公开/公告号CN1848472A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-10-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社东芝;

    申请/专利号CN200610073884.9

  • 发明设计人 大黑达也;

    申请日2006-04-06

  • 分类号H01L41/08(20060101);H01L41/22(20060101);B81B3/00(20060101);B81C1/00(20060101);

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人王永刚

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 17:42:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-12-23

    专利权的视为放弃

    专利权的视为放弃

  • 2006-12-13

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-10-18

    公开

    公开

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