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公开/公告号CN1809929A
专利类型发明专利
公开/公告日2006-07-26
原文格式PDF
申请/专利权人 磁旋科技公司;
申请/专利号CN200480017556.6
发明设计人 臧大化;
申请日2004-05-05
分类号H01L29/76;H01L23/48;G11C7/00;
代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司;
代理人程伟
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-12-17 17:29:38
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-06-20
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L29/76 公开日:20060726 申请日:20040505
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-09-20
实质审查的生效
2006-07-26
公开
机译: MRAM体系结构,位线位于磁性隧道结器件下方
机译: 磁隧道连接装置下方的位线位于MRAM体系结构
机译:STT-MRAM 1 Gb垂直磁隧道结阵列中关键器件参数的温度依赖性
机译:具有Co / lr界面各向异性的高性能垂直磁隧道结,适用于嵌入式和独立STT-MRAM应用
机译:用于MRAM应用的具有双势垒层的垂直磁隧道结
机译:具有未来MRAM新材料的外延磁隧道结的三维集成
机译:多位单元垂直磁隧道结器件的可行性。
机译:具有界面垂直磁各向异性的磁隧道结纳米柱的失效分析
机译:低功耗器件设计磁直隧道结在磁阻随机存取存储器(MRAM)中的设计应用
机译:磁随机存取存储器(mRam)器件开发