首页> 中国专利> 具有位于磁隧道结器件下面的位线的MRAM体系结构

具有位于磁隧道结器件下面的位线的MRAM体系结构

摘要

本发明公开了一种用于提供及使用磁存储器的方法和系统。所述方法和系统包括提供多个磁存储器单元、至少第一写入线和至少第二写入线。每个磁存储器单元都包括具有顶部和底部的磁元件。第一写入线连接到所述多个磁存储器单元的第一部分的磁元件的底部。第二写入线位于所述磁存储器单元的第二部分的每一个的磁元件的顶部之上。第二写入线与所述多个磁存储器单元的第二部分的每一个的磁元件电性绝缘。

著录项

  • 公开/公告号CN1809929A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-07-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 磁旋科技公司;

    申请/专利号CN200480017556.6

  • 发明设计人 臧大化;

    申请日2004-05-05

  • 分类号H01L29/76;H01L23/48;G11C7/00;

  • 代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人程伟

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-17 17:29:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-06-20

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L29/76 公开日:20060726 申请日:20040505

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2006-09-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-07-26

    公开

    公开

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