公开/公告号CN1764352A
专利类型发明专利
公开/公告日2006-04-26
原文格式PDF
申请/专利权人 精工爱普生株式会社;
申请/专利号CN200510113607.1
申请日2005-10-11
分类号H05K3/12;H05K1/02;H05K1/16;H05K3/10;G02B5/20;G02F1/1335;
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人李香兰
地址 日本东京
入库时间 2023-12-17 17:16:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-09-09
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-06-14
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-04-26
公开
公开
机译: 形成图案的方法,形成互连图案的方法,光学器件和电子仪器以蒸发或分析所需区域和图案薄膜的薄膜
机译: 薄膜图案形成方法和使用该薄膜图案形成方法的半导体器件的制造方法
机译: 薄膜图案形成方法和使用该薄膜图案形成方法的半导体器件的制造方法