公开/公告号CN1770165A
专利类型发明专利
公开/公告日2006-05-10
原文格式PDF
申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;
申请/专利号CN200510089252.7
申请日2005-07-27
分类号
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所;
代理人刘新宇
地址 台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
入库时间 2023-12-17 17:08:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-09-14
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G06F17/50 公开日:20060510 申请日:20050727
发明专利申请公布后的驳回
2006-07-05
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-05-10
公开
公开
机译: 半导体晶圆加工研磨,一种电子元件的组装方法,包括处理晶圆,直到晶圆比转子板薄,厚度比层厚为止,并在晶圆上排上凹口以保护晶圆
机译: 晶圆支持胶粘剂膜,用于处理半导体薄膜晶圆,无论半导体晶圆的尺寸如何
机译: 处理薄半导体晶圆的步骤包括:热处理晶圆的背面,施加金属基粘合覆盖层,使背面基板与形成导电面的晶圆等接触。