法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-06-27
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/46 公开日:20060215 申请日:20020819
发明专利申请公布后的驳回
2006-04-12
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-02-15
公开
公开
机译: 用于气体传感器的陶瓷加热装置,具有加热单元,加热单元的整个圆周紧靠基片,而在基片和基片之间不形成空间,其中基片由导电材料制成
机译: 非线性光学基片极化反转的加热装置及其方法,可间接加热夹具中的基片
机译: 用于模制光记录介质的基片的模制辊,用于形成光记录介质的基片的设备,用于形成光记录介质的基片的方法和由此形成的光记录介质